2004年11月17日

東京応化、半導体製造用材料の「最先端研究棟」新設

次世代以降のフォトリソグラフィ技術の研究開発を強化

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：東京応化工業

東京応化工業(本社：川崎市中原区、中村洋一社長)は17日、次世代以降の最先端半導体製造用材料を研究開発していくため、相模事業所内に約65億円をかけて新しい研究開発棟を建設すると発表した。完成は2005年末の予定。 　 　新研究開発棟には、清浄度ISOクラス3.5 以下のスーパークリーンルームを設置し、45ナノメートル・ノードプロセス以降の微細加工に対応するフォトリソグラフィ技術の研究を行うための研究開発機器を導入する。第1期導入機器にはこれに必要な、液浸露光技術に対応する露光装置を導入する方針。 【新研究開発棟の概要】 (1) 所在地：神奈川県高座郡寒川町田端1590番地（相模事業所内） (2) 建築面積；約1,600〓 (3) 延べ床面積：約5,900〓 (4) 構造鉄骨造：地上6階建て (5) 投資額：約65億円 (6) 完成予定：2005年12月 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/1117ohka.pdf