2004年11月29日

JSR、ArF液浸露光で世界初「線幅32ナノメートル」解像に成功

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：JSR

JSRは29日、半導体製造工程における液浸露光用の高屈折率液体を新たに開発し、水を用いた液浸露光の限界を超えた回路線幅32ナノメートルの解像に世界で初めて成功したと発表した。詳細は「SEMICON Japan」期間中の12月3日にホテルニューオータニ幕張で開催する「JSRセミナー2004」で発表する。 　線幅32ナノメートル（ハーフピッチ）の解像に成功したことにより、F2液浸リソグラフィの領域をカバーすることが可能となり、ArF（フッ化アルゴン）露光技術のさらなる継続使用に大きく貢献するとしている。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/1129jsr.TIF