2004年12月20日 |
日本ゼオン、川崎に「次世代研究棟10号館」建設決る |
【カテゴリー】:経営 【関連企業・団体】:日本ゼオン |
日本ゼオン(古河直純社長)は、独創的技術の研究開発を強化・促進するため、総合開発センターおよび隣接の川崎工場(神奈川県川崎市)の一部を再開発し、次世代技術中心の新研究棟10号館の新設と環境関連付帯設備の建設を決めたと発表した。投資額は約100億円の見込み。 新研究棟10号館は、IT関連先端材料、精密製品設計、精密加工製品、など独創性の高い次世代事業創出の研究施設であるため、コンピューターを駆使した解析機能、ナノオーダーでの構造設計、精密加工や精緻なミクロ分析が可能な最新の研究機器を導入し、研究開発の環境も研究開発の外乱因子である振動の防止や空気中の汚染等を排除したクリーンな環境とするなど、高性能で最先端の研究施設とする。 同社は昨年度、全館クリーンルームの研究棟を総合開発センターに新設、現在、高岡工場(富山県高岡市)に精密光学研究所を建設中で、近く完成する。今回の新研究棟の新設により、独創性に優れた、次世代事業創出のための研究開発体制が整うとしている。05年2月に着工、07年3月完成の予定。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/1220zeon.pdf |