2005年04月12日

昭和電工、次世代半導体製造用「帯電防止剤」を開発

【カテゴリー】：新製品/新技術（経営） 【関連企業・団体】：昭和電工

昭和電工(高橋恭平社長)は12日、半導体の集積回路形成時に使用されるチャージアップ防止剤「エスペイサー」の機能と性能を改善し、リソグラフィ工程の簡略化を可能とした新グレード「エスペイサー 300Fシリーズ」を開発したと発表した。今月13日からパシフィコ横浜で開催される国際シンポジウム「ホトマスクジャパン2005」で、大手フォトマスクメーカーと共同発表する。 　チャージアップ防止剤は、半導体製造時のリソグラフィ工程で電子線描画時のチャージアップによるパターンの位置ずれ現象を防止するために使用される。今後、さらに微細化、高集積化が進む半導体加工に必要不可欠とされている。 　昭電は「導電性ポリマーの発見と開発」の業績によってノーベル化学賞を受賞（2000年）した、カリフォルニア大学サンタバーバラ校アラン・ヒーガー教授に1983年から約10年間研究指導を受け、水に溶けやすく、高い導電性を有する高分子を独自開発した。 　現在、この導電性高分子を主成分とした、高純度の電子線描画用チャージアップ防止剤「エスペイサー」を販売しているが、今回開発した新グレード「エスペイサー 300Fシリーズ」には、次のような特徴がある。 （1）既存のチャージアップ防止剤において問題となる化学増幅系ポジ型レジストへの侵食がない （2）レジストへの高い塗布性能を持つ （3）レジストベークプロセス後ではなく、PEBプロセス後での水洗除去が可能となることから従来工程を大幅に簡略化できる ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1113284207.doc