2005年06月23日 |
「中国の知的財産権侵害、依然深刻」経産省が実態調査 |
【カテゴリー】:行政/団体 【関連企業・団体】:経済産業省 |
経産省は23日、「中国の知的財産権侵害に対する処分内容は、軽いケースが多い」などとした、同国における知的財産侵害の実態調査結果を発表した。わが国企業への影響の深刻さを、あらためて浮き彫りにしたかたちだ。同調査は今年3月から4月にかけて、中国に進出、あるいは取引きしている178社を対象に書面で行った。回答数は134社(回答率75%)だった。 同調査の結果、 (1)日本企業は、中国において知的財産権の侵害を受けた際に行政手続を広範に活用しているが、処分内容は軽いケースが多い。 (2)行政手続きに比べ、民事・刑事手続きの利用が極めて低い。 (3)中国からの模倣品等の輸出により、第三国市場における知的財産権侵害が拡大している。 (4)中国当局による不十分・不適切な執行が多く見受けられる。 (5)手続きを利用した日本企業の半数が再犯に遭遇している。 など、中国における知的財産侵害は、依然としてわが国企業に深刻な影響を及ぼしていることが判明したとしている。 調査回答企業を業種別にみると「化学品」は27社が回答、うち救済手続きを利用した企業は11社にのぼっている。 |