2001年09月11日

経産省、先端的半導体研究助成先に積水化、東芝など5件決る

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：積水化学工業、東芝、経済産業省、NEDO

経済産業省は2001年度の補助事業として、先端的半導体製造技術の開発研究に積水化学工業など5件の補助採択を決めた。NEDOを通じて助成する。 　同事業は誰でも容易に情報通信が利用できるようにしようと、リソグラフィー・マスク関連、ウェハープロセス関連など先端的な半導体等デバイス製造に必要なプロセスの実用化研究を支援するもので、助成額は1件当たり2億円。採択が決まった事業者は以下の通り。 ◇(株)アルバック　次世代Cu-CVD装置の開発 ◇積水化学工業　常圧プラズマ利用によるCVD等製造技術・プロセスの開発 ◇(株)エー・アンド・ディ　電子ビーム露光装置用の周辺技術の開発・実用化 ◇日本電子　次世代電子ビームウエハホール開口検査装置技術の実用化開発 ◇東芝　超高精度次世代マスク欠陥検査装置システム技術開発