| 2007年03月08日 | ||
| 信越化学と凸版印刷、最先端フォトマスクブランクスを共同開発 | ||
| 【カテゴリー】：経営（新製品/新技術） 【関連企業・団体】：信越化学工業、凸版印刷 |
||
信越化学工業と凸版印刷の両社は8日、45nm、32nmに対応するフォトマスクブランクスを共同開発したと発表した。フォトマスクの微細加工精度が大幅に高まり、高精度かつ信頼性の高い最先端フォトマスクの供給が可能となった。すでにフォトマスクサンプル出荷を順次開始しているという。 半導体は、携帯電話などのモバイル機器やデジタル機器の性能向上のために、高速化、低消費電力化に向け45nm、32nmと微細化に向けた技術開発が活発化している。微細化に伴い、半導体製造プロセス開発の難易度が高まり、材料や装置を含めた総合的な開発が必須となっており、回路原版となるフォトマスクの重要性も増している。 こうした事情から、シリコンウエハーの世界トップ企業で、フォトマスク用合成石英および特殊レジストを手がける信越化学と、フォトマスクの世界ナンバーワン企業である凸版印刷が、最先端フォトマスクブランクスの共同開発に取り組み、新たな製品の開発に成功した。また、フォトマスクの製造においては、新フォトマスクブランクスに適した新プロセスを開発し、高精度の微細加工を実現した。 これにより、信越化学は、ハイエンドフォトマスクブランクス事業に進出し、さらに最先端分野を強化していく。凸版印刷はさらに高い精度と信頼性をもった先端フォトマスクを供給していくことにしている。 開発にあたっては、信越化学がフォトマスクブランクスの開発、凸版印刷は開発品の評価とフォトマスク製造の新プロセス開発を担当。従来品のコンセプトから見直し、革新的な材料構成を実現した。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1173342278.doc |
