2007年10月19日

日独両国、「特許審査ハイウエー」試行開始で合意

【カテゴリー】：行政/団体（海外） 【関連企業・団体】：経済産業省、特許庁

経産省は19日、同日東京で開催された日独特許庁長官会合で、両庁が特許審査ハイウエーの試行を開始することに合意したと発表した。 　 　特許審査ハイウエーとは、出願人の海外での早期権利化を実現するとともに、両国特許庁の審査負担軽減と審査の質の向上を図ろうというもので、両国は今後、2008年3月からの開始を目指して調整に入る。 　 　特許審査ハイウエーは、日米間ではすでに2006年7月から試行プログラムを開始、日韓間は今年4月、日英間は今年7月から試行を開始しており、日独間の試行開始は4カ国目となる。特許庁では今後も対象国の拡大に向けた交渉を進めていきたいとしている。