完成した「ナノテク棟」

　出光興産では、千葉袖ケ浦市の先進技術研究所(久米和男所長)内に建設中だった電子材料分野の研究施設「ナノテク棟」が完成した。4日竣工する。

　最先端の電子材料分野の研究を行なうもので、総投資額は13億円。FPD(フラットパネルディスプレイ)や半導体、集積回路などの基板上に形成する薄膜の作製施設や評価施設を整えた。また集積回路の基板上に微細な回路パターンを現像するリソグラフィー施設用に最新鋭のクリーンルーム4室を設置した。電子材料を中心とした機能性材料の製造検討を行う有機合成実験室も備えた。

　「ナノテク棟」では、これらの研究設備を活かして、今後はFPD向けの最先端機能性材料や次世代半導体製造用フォトレジスト材料の研究開発を加速化させる。また次世代以降の半導体材料の研究開発を発展させていく方針だ。

【ナノテク棟 概要】
◇所在地 :千葉県袖ケ浦市上泉1280　出光興産先進技術研究所内
◇建物構造 :鉄骨造 地上2階
◇延べ床面積 :1678.8平方メートル
◇着工/ 完成 :2007年11月/2008年5月
◇設備 :1階 クラス100クリーンルーム2室、クラス1000クリーンルーム2室
・リソグラフィー施設
・微量金属分測定施設
・薄膜作製実験施設
・薄膜評価施設
◇設備 ：2階 有機合成実験室

ニュースリリース参照
http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1212480149.pdf

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