2008年09月11日

三井化学とトクヤマ、モノシランガス製造プロセスを共同開発

【カテゴリー】：経営（新製品/新技術） 【関連企業・団体】：トクヤマ、三井化学

三井化学、トクヤマの両社は、太陽電池や半導体・液晶などのデバイス製造用特殊ガス「モノシランガス」の新規製造プロセスを共同開発することで合意したと11日発表した。 　 　モノシランガスは、薄膜系太陽電池をはじめ半導体、液晶などの各種電子デバイス製造の際、シリコン膜、シリコン酸化膜形成用に用いられる特殊ガスで、今後急激な需要の伸びが予想されている。 　 　三井化学は、モノシランガスの製造・販売に豊富な経験を持ち、現在、大阪工場に年産150トン設備を稼働中だが、新たに「合金法」など、独自の製造プロセスを検討していた。 　 　一方、トクヤマも長年半導体に用いられる高品位ポリシリコンなど豊富なシリコン原料系の製品群を有し、出発原料となるモノシランガスの製造プロセスについても独自に検討を行ってきた。 　 　今回、両社の長年にわたる豊富な知見と技術を融合させ、モノシランガスの新規製造プロセスを早期に開発することにした。技術完成後は、両社による共同事業化を目指す。 　なお、わが国では現在三井化学のほか、電気化学工業と仏・エア・リキードグループの合弁会社「デナールシラン」が高純度モノシランガスを事業化しており、今年11月には電化・青海工場に現有年産200トンから同500トンへの増設工事を完工することにしている。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1221110898.pdf （英文） http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file2_1221110898.pdf