2009年01月09日

日中商標長官会合、「模倣品対策セミナー」開催などで合意

【カテゴリー】：行政/団体 【関連企業・団体】：経済産業省、特許庁

経産省は9日、特許庁（JPO）と中国商標局（CTMO）による第7回日中商標長官会合が8日、北京で開催され、商標出願手続きに関するシンポジウム及び模倣品対策のためのセミナーの開催など、幅広いレベルで協力関係を強化していくことで合意したと発表した。 　 　また、わが国は最近中国で日本の地名や地域ブランドを使った商標登録が出願されていることについて、公平、適切な審査を実施するよう要請した。 　 　日中両国では合わせて約90万件（日本：約14万件、中国：約76万件）の商標が出願され、一方では模倣品対策など商標保護に関するニーズも増加している。両国の商標長官会合はこうした状況を背景に開催された。合意事項及び要請事項は以下の通り。 　 ＜合意事項＞ （1）関係企業等を対象とした商標出願手続きシンポジウムの開催 （2）地方の模倣品対策にかかわる全省担当者セミナーの開催 ＜要請事項＞ （1）わが国地名、地域ブランドが第三者から商標登録・出願されている問題 （2）わが国の周知商標が第三者により商標登録・出願されている問題 （3）わが国の普通名称が第三者により商標登録・出願されている問題 　これに対し、中国側からは法律に基づいて厳格に判断し、悪意に基づく出願に対しては厳正に対処するとの回答があった。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1231487819.tif