先端リソグラフィ材料新工場

　JSRは25日、今春四日市工場（三重県）内に総投資額約40億円で完工した先端リソグラフィ材料新工場が本格稼働に入り、ArFレジストの有償出荷を開始したと発表した。

　40ナノメートル（1ナノ＝10億分の1）世代の半導体製造プロセスの立ち上がりによるArFフォトレジストの需要増加に伴い、高品質の製品を、安定的かつ効率的に供給できる体制を整えた。

　新工場は、製造設備を完全クリーンルーム化し、自動化を進めることで高度化する品質要求に対応する。現在、展開されている液浸露光用ArFレジスト、業界標準となっている液浸露光用トップコート材料、塗布型ハードマスク材料のほか次世代半導体製造用の材料まで幅広い
先端材料を生産する。

　新工場の完成により、2012年以降の需要量にも対応できるとしている。

　同社は引き続き、ArFフォトレジストをはじめ、液浸露光用上層膜材料と高屈折率液体、塗布型ハードマスク材料、高密度実装用材料、CMP材料など、次世代半導体製造に欠かせない最先端半導体材料の開発を積極的に進めていく方針だ。
　
　ArFフォトレジストは、四日市工場と米国カリフォルニア州JSRマイクロ社で生産し、世界市場へ供給している。


【先端リソグラフィ材料新工場の概要】
◇建設場所　　当社四日市工場内(三重県四日市市川尻町100番地)
◇延床面積　　約4,000m2　3階建て　
◇完工　　　　2009年春
◇投資額　　　　約40億円

ニュースリリース参照
http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1259140547.doc

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