巨化昭和本社工場

昭和電工は4日、フォトレジスト洗浄剤として需要の伸張が見込まれる高純度シクロヘキサノンを中国で量産すると発表した。浙江省にある合弁会社、「浙江クシュウ巨化昭和電子化学材料有限公司」(昭電51%出資)に年産5000トン設備を設置する。今年8月から本格運転開始の予定。

高純度シクロヘキサノンは、半導体や液晶パネルの製造工程でフォトレジストの洗浄(注1)や溶媒(注2)として使用されるが、今後液晶パネルの生産拡大に伴い需要の増加が見込まれている。

原料のシクロヘキサノンは、合弁パートナーである巨化集団公司から調達し、生産は昭電の精製技術により行う。

昭電は、新たに生産設備を中国に設置することにより、高純度シクロヘキサノンの安定供給体制を構築し、同事業の基盤を強化する。

同社は、有機・無機系の各種洗浄剤を「ソルファイン」シリーズとして展開しているが、生産拠点を徳山事業所(山口県周南市)、台湾(台湾昭和化学)に続いて、巨化昭和に持つことになる。

■用語の解説
(注1)フォトレジストの洗浄:フォトレジストとは、光や電子線の照射により物性が変化する組成物。フォトレジストを基板に塗布し、露光・現像等の工程を経て、基板上に電子回路を形成する。工程中では、不要部分のフォトレジストを除去するための洗浄が必要となる。

(注2)溶媒:フォトレジストなどの組成物を溶解させるための液体。溶媒にフォトレジストを溶かすことによりフォトレジストの濃度を任意に調整することができる。

ニュースリリース参照
http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1267668676.doc

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