2001年02月14日

旭硝子、次々世代半導体リソグラフィレジスト用フッ素樹脂開発

2005年の「F2レーザー」立ち上げに向け供給体制整備

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：旭硝子

旭硝子は14日、半導体製造工程での次々世代露光装置用光源として有力候補といわれる、F2(フッ素ダイマー)エキシマレーザーに対応したリソグラフィレジスト用ベースポリマーとなる高光透過性フッ素樹脂の開発に成功したと発表した。 　4月から政府主導でスタートする「次々世代半導体基盤技術開発プロジェクト」では、とくにLSIに搭載される素子寸法の微細化に対応できるリソグラフィ技術(回路露光技術)の向上が重要な要素といわれている。 　半導体微細化のロードマップとしては、現在は線幅0.18~0.13マイクロメートル(μm)に対応するKrF(フッ化クリプトン)エキシマレーザーが主流だが、次世代(0.13~0.1μm)ではArF(フッ化アルゴン)エキシマレーザーが使用され、次々世代(0.1~0.07μm)になるとF2エキシマレーザーに変わると予想されている。また、2005年頃には量産化されると見られている。 　半導体製造に使用されるレジストの世界需要は年間800~900億円で、国内メーカーが世界の50%以上を供給している。 　旭硝子は2005年頃のF2レーザー立ち上げに向けて開発、製造体制整備を急ぐ方針である。