2012年08月30日

富士フイルム、台湾に半導体材料「CMP スラリー」設備完成

【カテゴリー】：経営（海外） 【関連企業・団体】：富士フイルム

富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（FFEM）は30日、台湾の子会社が「CMP スラリー」 の新生産ラインを完成し、現地生産を開始したと発表した。 FFEM は、富士フイルムのエレクトロニクスマテリアルズ事業の中核会社で、半導体製造工程に使用するフォトレジストやイメージセンサー用材料、CMP スラリーなどを生産しグローバル展開中である。 台湾には、1996年に子会社FETWを設立。これまでにフォトレジストや現像液、イメージセンサー用材料を生産し、現地ニーズに対応してきた。 今回、CMPスラリーの新生産ラインを完成し、今後の現地需要の増大に対応することにした。 ＜新生産ラインの概要＞ （1）会社名　 FUJIFILM Electronic Materials Taiwan Co., Ltd. （FETW） （2）所在地 　30, Kuang-fu N. Rd. Hsin-chu Ind. Park Hu-Kou Xiang, Hsin-chu County, 303 Taiwan （3）生産品目　半導体材料「CMP スラリー」 （4）稼動開始　平成24年8月 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file2_1346293803.pdf