2013年03月27日

産総研、光照射でプラスチック・メッキ薄膜の密着性向上

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：産業技術総合研究所

産業技術総合研究所は27日、無電解メッキによりプラスチック基板上に形成した金属薄膜に高強度のパルス光を瞬間的に照射すると、基材にダメージを与えずにメッキ膜の密着性を向上できることを発見した。また、この技術によってメッキ膜のパターニングも可能であることがわかった。 今回の技術では、基材の表面処理を行わずに成膜したメッキ膜に高強度のパルス光極短時間（数百マイクロ秒）照射して、メッキ膜を瞬間的に高温にする。これによって、メッキ膜とプラスチック基材の界面だけが瞬間的に加熱されるため、密着性が向上する。 また、短時間（マイクロ秒）で大面積（A4サイズ）のメッキ膜を処理できる。さらに、パルス光をフォトマスクを通して照射すると、マスクされた部分の密着性が低く、粘着テープで容易に剥せるため、メッキ膜のパターニングが可能である。