2000年11月29日

三菱ガス化学、電子工業薬品「R&Dセンター」を開設

研究3拠点を統合、効率化、迅速化を図る

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：三菱ガス化学

三菱ガス化学は29日、3拠点に分散していた半導体集積回路(LSI)、液晶デバイス(LCD)、プリント配線板(PWB)などエレクトロニクス分野向けケミカルズの研究開発体制を統合し、次世代技術からテクニカルサービスまで一元的に研究開発する「R&Dセンター」を東京研究所(東京都葛飾区)内に開設すると発表した。 　将来高い成長が期待できる分野に研究資源を投入し、(1)各拠点に蓄積された技術、ノウハウの活用と、シナジー効果による独自製品の開発推進(2)統合による研究の効率化、迅速化(3)技術ニーズに応えた製品をタイムリーに提供する、などを図る。 　センターは当面20人程度のスタッフで運営、本館と実験棟をもつが、将来設備を増強する方針。事業目標として、LSI、LCD、PWB分析の表面処理液等で世界シェアの10%、将来20%確保を目指す。なお同社はEL薬品事業で海外に韓国三永純化、米国MGC Pure Chemicals America(MPCA)、シンガポールMPC-Shingapore、台湾MPC-Taiwanなどの合弁会社をもっており、今後はこれらの拠点を活かして海外展開にも注力していく方針だ。