2014年02月26日

昭和電工、韓国に半導体向け高純度亜酸化窒素の新拠点

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：昭和電工

昭和電工は26日、半導体製造用特殊ガスの一つ、高純度亜酸化窒素の供給拠点を韓国に新設すると発表した。 同国の斗岩産業（本社：京畿道安城市）と、年間600トンの生産委託契約を締結した。 またソウル近郊にある同社工場内に精製設備を共同で立ち上げる。 設備は2014年中に完成し、2015年から販売開始の予定。 昭電の高純度亜酸化窒素供給能力は、川崎事業所の現有年産1,200トンに今回の委託分600トンを合せて1,800 トンに拡大する。 高純度亜酸化窒素は、半導体CVDプロセスで絶縁酸化膜形成用ガスとして使用される。 アジア地区では半導体用途での需要の伸びが年率10～15％と著しい。 近年はディスプレイ製造時の酸化膜の酸素源としても用途が拡がっている。 このため同社は今後アジア地域を中心にさらにグローバル展開し増大する需要を積極的に取り込んでいく方針だ。 ニュースリリース http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1393392997.pdf