2015年04月09日

信越化学、台湾にフォトレジスト製品の新工場建設

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：信越化学工業

信越化学工業は9日、フォトレジスト関連事業拡大のため台湾に新工場を建設すると発表した。 当局の許可を得次第着工する。投資金額は約130億円で、工期に1年程度を見込む。 フォトレジストは半導体デバイスの製造に不可欠な感光性樹脂。信越化学は業界最後発で1994年、直江津工場（新潟県）で生産を開始した。 独自の合成技術でKrFエキシマレザー用のフォトレジストを開発した。その後は市場の拡大に伴いArFエキシマレザー用フォトレジストなど多層レジスト材料を相次いで開発し業績も好調だ。 直江津工場と2つの生産拠点を持つことでリスクの分散と事業の更なる拡大を図る。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1428624966.doc