2015年04月23日

昭和電工、高純度臭化水素製造拠点の増強完了

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：昭和電工

昭和電工は23日、川崎製造所の高純度臭化水素（HBr）生産設備を従来比1.5倍の年産600トンに増強し、本格稼働を開始したと発表した。 高純度HBrは、フラッシュメモリやDRAMなどの半導体製造工程（エッチング）で使用される特殊ガス。このところ半導体メモリは、携帯端末やデータセンター向けを中心に需要が拡大しており、今後も年率10～20％以上の市場成長が期待されている。 同社は、1993年に高純度HBrの製造・販売をスタート。HBrの合成から高純度ガス精製までの一貫生産体制を有する世界唯一のメーカーとして販売シェアを拡大してきた。新中計でも半導体材料ガスを成長事業と位置づけており、今後も世界半導体市場の拡大に対応して同事業の拡大に注力する。 ニュースリリース http://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1429766012.pdf