2016年02月25日

日米特許庁、特許・意匠の分類協力で合意

【カテゴリー】：行政/団体 【関連企業・団体】：特許庁

特許庁は25日、米国特許商標庁との間で知的財産分野（特許及び意匠）における「分類」の協力について合意し、覚書に署名したと発表した。 特許や意匠の文献には、出願された技術、デザインなどを「分類」する必要があるが、両国はこれまで独自の分類方法を採用してきた。 今回の協力は、日本が採用する特許分類と、米国が採用する特許分類が一致する技術分野では、日本独自の検索インデックスを米国の特許分類に組み込むという内容。これによって、米国特許商標庁の審査官は日本の審査官と同じ検索インデックスを使って日本の特許文献を検索することが可能となる。まず今年6月をメドに試行5分野で実施し、その後、試行分野拡大を検討する。 また、意匠分類での協力では、両庁で意匠分類体系の使用・運用についての情報共有をさらに推進し、日米間の意匠分類間の対照表の作成を行う。 ニュースリリース http://www.meti.go.jp/press/2015/02/20160225002/20160225002.pdf