2016年07月06日

ギガフォトン、EVU光源の発光効率4・0％達成

【カテゴリー】：ファインケミカル 【関連企業・団体】：NEDO

NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）は6日、コマツ・グループのギガフォトン（本社・栃木県小山市、都丸仁社長）がNEDOプロジェクトで開発中の極端紫外線（EUV）スキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機で発光効率4・0％、最先端半導体量産適用可能レベルである250Wの発光出力、および130Ｗ以上の出力で119時間の連続運転に成功したと発表した。量産対応EUVスキャナーの実現に向けて大きく進捗した。 ギガフォトンでは、半導体量産工場での使用を想定して設計したEUV光源の高出力検証機の稼働も併せて開始している。引き続き、最先端半導体量産への適用を目指して高稼働率、高信頼性EUV光源の開発を進める。また今後は、省電力CO2レーザーの導入とEUV光の発光効率の向上を検証し、省エネルギー化を目指す。