2016年11月04日

産総研と住友電工、つくばに6インチSiC新ライン完成

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：産業技術総合研究所、住友電気工業

産業技術総合研究所は4日、住友電気工業と共同で開設したTIAパワーエレクトロニクス研究拠点（産総研つくば西事業所内）にシリコンカーバイド（SiC）パワー半導体デバイスの量産開発を可能とする6インチSiC新ラインが完成し、稼働開始したと発表した。 この新ラインは、基礎研究から一歩進め、世界最先端・最速のSiCパワー半導体の量産技術、信頼性評価技術、品質評価技術の開発を可能とするもので、SiCパワー半導体の実用化・本格普及による社会イノベーションの推進が期待される。 両者は同ラインを用いて、将来にわたりトップレベルの研究開発を行うとともに、パワエレ産業創出に向けて、わが国産業界が広く利用可能なプラットフォームとして運用していく方針だ。