2017年02月02日

産総研、シロキサン結合のワンポイント合成技術を開発

【カテゴリー】：ファインケミカル 【関連企業・団体】：産業技術総合研究所

NEDO（新エネルギー・産業技術総合開発機構）は2日、産業技術総合研究所がNEDOプロジェクトで、シリコーンなどの有機ケイ素材料の主骨格を形成しているシロキサン結合を、同一の反応容器内で複数個、選択的に形成できる技術（ワンポイント合成技術）を開発したと発表した。 従来方法では合成自体が困難あるいは多段階合成を必要としていた構造制御シロキサン化合物を一挙に構築することができる。今後、同技術を基盤とした高機能・高性能シリコーン材料の開発が期待される。 同成果は、Wiley-VCH社発行の学術誌Angewandte Chemie　International Edition（2月2日付）に掲載。