2018年02月20日

産総研、ポリシロキサンの簡便な合成法開発

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：産業技術総合研究所

産業技術総合研究所は20日、触媒化学融合研究センターの佐藤一彦研究センター長らのチームが、シリコーンなど有機ケイ素材料の主成分となるポリシロキサンの構造を精密制御できる新しい合成技術を開発したと発表した。 近年、高い耐熱性などを有する高機能・高性能な有機ケイ素材料が求められ、構造が精密に制御されたポリシロキサンを合成できる技術が求められていた。今回、研究チームは、環状トリシロキサンを原料とし、水を重合開始剤、高い塩基性の有機化合物であるグアニジンを触媒に用いて重合反応を行った。この結果、従来法では合成自体が困難で、合成操作が煩雑だった、分子量と両末端構造を制御したポリシロキサンを簡便な操作で合成できる方法を開発した。 同技術により、今後エラストマーやゲルなどの高機能・高性能シリコーン材料の開発が加速されると期待される。 この成果の詳細は2月19日（現地時間）に王立化学会（英国）が発行する学術誌Chemical Scienceに掲載される。 ニュースリリース http://www.aist.go.jp/aist_j/press_release/pr2018/pr20180220/pr20180220.html