2020年01月22日

信越化学、窒化ガリウム事業 本格展開

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：信越化学工業

信越化学工業は22日、次世代パワー半導体として注目される窒化ガリウム（GaN）基板および関連製品の事業拡大を図るため、Qromis, Inc.（本社：米カリフォルニア州）との間で、同社が有するGaN基板関連技術についてライセンス契約を締結したと発表した。 信越化学は、半導体シリコンウエハーを製造する子会社の信越半導体とともに、パワー半導体と高周波半導体向けに通常のシリコンウエハーに加え、Silicon on Insulator（SOI）ウエハーやGaN on Siliconウエハー等の基板を開発し、販売してきた。 これらの製品群をさらに拡充するとともに、Qromis社の技術を用いてGaN基板および関連製品の品揃えを図る。 GaNを用いた半導体は、電動自動車等のモビリティーの進化、5Gやデジタライゼーションなどで求められる高デバイス特性と省エネルギーという相反する課題を解決できるデバイスとして、今後需要が大きく拡大することが期待されている。 ニュースリリース参照 https://www.chem-t.com/fax/images/tmp_file1_1579680514.docx