2020年10月15日

信越化、フォトレジスト事業拡大へ日・台で増強

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：信越化学工業

信越化学工業は15日、フォトレジスト事業強化のため、日本と台湾の製造拠点で、合計300億円の設備投資を実施すると発表した。先端半導体製造に不可欠なフォトレジストの伸長する需要と技術進化に応えていく方針だ。 半導体の製造プロセスの高度化は今後も継続して行い、技術と供給の両面で顧客の要望に適時に応える。 そのための能力増強を子会社の信越電子材料股●有限公司（台湾雲林県）と信越化学直江津工場（新潟県上越市）で実施する。 信越電子材料（台湾）では、2019年夏に第一期工事を終了しているが、既に新たな工場棟の建設を進めており、今回生産設備をさらに増強する。2021年2月までの工事完了を目指す。一方、直江津工場でも、新たに建屋を建設し、能力増強を進める。2022年2月までの工事完了を目指す。 ●は、にんべんに分