2024年04月09日

信越化、群馬に半導体材料の第四拠点建設

【カテゴリー】：行政/団体 【関連企業・団体】：信越化学工業

信越化学工業は9日、半導体露光材料事業の拡大に向け、同事業で四番目の拠点となる工場を、群馬県伊勢崎市に建設することを決めたと発表した。 　同市内に約15万平方メートルの用地を取得し、半導体露光材料の製造及び開発拠点を新設する。用地は複数の候補地の中から選んだ。今後、段階的に設備投資を実施していく計画。第一期の投資は2026年までの完工を目指す。投資額は第一期段階で、用地取得費も含め約830億円の見込み。全額自己負担。 　同社は1997年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）で当時最先端のKrFフォトレジストの生産を開始した。その後、フォトマスクブランクス、ArFレジスト、多層膜材料、EUVレジストなどの半導体露光材料の開発に相次いで成功し、事業拡大してきた。2016年には同事業の第二の生産拠点を福井県に、2019年には第三の生産拠点を台湾雲林県に設け、安定供給してきた。 　半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けている。今回、顧客からの要請に応えるため、リスク分散も可能な第四の生産拠点の新設を決めた。同社は今後、同地を半導体材料の先進拠点と位置付け、将来的には研究開発を含む半導体露光材料ほかの拠点として拡大させていく計画だ。