2002年07月17日

三菱化学、米社と半導体用次世代洗浄剤を開発、販売開始

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：三菱化学

三菱化学は17日、米アプライドマテリアルズ社と、アプライド社が開発した枚葉式ウェットクリーニング装置「Oasis　Clean」の洗浄性能を飛躍的に向上させる薬品を共同開発したと発表した。 　 　製品名は、両社のイニシャルから「AM1」とつけた。ウェハー表面上のパーティクル除去性能を高めるとともに、バッチ式洗浄に必要とされてきた2段階洗浄を1度に行うことを可能にした。三菱化学はすでに6月下旬から黒崎事業所で生産を開始し販売中。(詳細はトップページ「ニュースリリース」参照)