2002年01月17日

旭硝子、画期的な「F2レジスト用フッ素樹脂」開発に成功

世界で初めて、膜厚250μmでの微細パターン成形可能に

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：旭硝子

旭硝子は17日、次々世代半導体リソグラフィ光源の最有力候補であるF2レーザーに対応し、実用膜厚250nm(ナノメートル)で線幅100nmの微細パターン(1:1のラインアンドスペース)形成を可能にする高光透過性レジスト用フッ素樹脂の開発に世界で初めて成功したと発表した。 　同社は昨年2月、民間共同開発プロジェクト「あすか」のテーマである0.07μm(マイクロメ-トル)線幅開発ロードマップに沿って、F2レーザーに対応するレジスト用ベースポリマーとなる高光透過性フッ素樹脂を開発した。その後、半導体先端テクノロジーズ社と共同で、レジスト材としての実用性能を、現像性や解像性、耐ドライエッチング性、回転塗布性など多くの角度から検証してきた。 　 　レジストとしての実用化にあたり、技術的に最も困難とされていたのは、実際のリソグラフィ工程で塗布されるレジストの厚み(200~300nm)でF2レーザーの微細パターンを形成する点にあったが、同社はこれを可能にする新しい高光透過性フッ素樹脂の設計、合成に成功した。 　 　半導体の製造に使用されるレジストの世界需要は800~900億円といわれている。同社は2002年春をめどに試作設備を増強し,レジストメーカーや装置,デバイスメーカー向けにサンプル供給を開始する。05年にはF2レーザーを立ち上げ、07年には量産化する方針である。