2002年12月02日

積水化学、UV光照射の「自己剥離粘着テープ」開発

半導体ウェーハの極薄研削プロセス自動化

【カテゴリー】：新製品/新技術 【関連企業・団体】：積水化学工業

積水化学工業は2日、独自の高接着・易剥離粘着剤技術を活かし、極薄半導体ウェーハ加工用自己剥離型粘着テープ「セルファ」を開発したと発表した。ガラス基板上に半導体ウェーハを固定し、極薄研削・研磨加工した後、UV光を照射して極薄ウェーハを自己剥離させる。このテープを使用することにより、半導体ウェーハを極薄に研削するプロセスを自動化することができ、生産性が向上する。2003年初から試験発売する。05年5億円、07年10億円の売上げを見込んでいる。 　 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/02C02004.tif