2002年12月04日

JSR、四日市にCMP用研磨パッド工場が完成

【カテゴリー】：経営 【関連企業・団体】：JSR

JSRは4日、四日市地区に建設を進めていたCMP(化学機械平坦化)用研磨パッド工場が完成したため、18日竣工すると発表した。生産能力は当初は年産4万枚だが、今後販売の伸びに合わせてさらに拡大していく。 　 　CMPプロセスは半導体デバイス製造上の重要な工程の一つで、パッド上に研磨砥粒を含むCMPスラリーを供給し、ウエハーを研磨、平坦化する工程。半導体デバイスの微細加と多層化の進展に伴い、より高度な平坦化と低スクラッチ 性をもった研磨用パッドが必要とされ、今後需要の増加が見込まれている。 　JSRは同事業でアジア、米国、欧州の各地に拠点をもち、世界シェア30%獲得を目標に、グローバル展開を進めている。 　 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/02C04005.tif