2002年12月05日 |
JSR、ハネウェルの「下層反射防止膜」世界で販売 |
【カテゴリー】:経営 【関連企業・団体】:JSR |
JSRは5日、ハネウェル・エレクトリック・マテリアルズとの間で、ハネウェル製品の半導体製造用下層反射防止膜「DUO」(商品名)を、全世界で販売することで合意し、契約を締結したと発表した。 「DUO」は6月の米国学会IITCで発表された次世代配線材料で、ゾルゲル技術をベースに開発された。下層反射防止膜としての性能だけでなく、段差のある基盤での平坦化や埋め込み性能を備えており、銅配線工程に用いられるデュアルダマシン構造形成を可能にする。 半導体材料事業を展開中の同社としては、これまでのフォトレジスト、CMP材料、Lowーk材料に「DUO」を加えたことで、より幅広いソリューションを提供していくことが可能になった。 ニュースリリース参照 http://www.chem-t.com/fax/images/02C05001.tif |